* 线性阵列： 1. 支持直接绘制和拾取参照线两种模式，拾取参照线阵列可跟随参照线的角度变化； 2. 支持阵列到第二个和最后一个，分别对应属性面板中的间隔距离和整体距离两种阵列方式； 3. 列完成后支持在属性面板中通过“反向”属性调整阵列方向； 4. 支持在属性面板中对阵列方式进行调整阵列方式，并根据阵列方式对阵列个数、阵列间距或阵列总距直接修改数值，或通过关联参数的方式实现参数化控制阵列的属性； * 操作步骤： 1. 选择需要阵列的对象，在“助手对话框”中选择“阵列”命令； 2. 选择需要的阵列形式：移动到：第二个、最后一个 和阵列数； 3. 在绘图区域单击指定移动的起点，再次单击确定移动的终点； 4. 完成后Esc退出阵列命令；  *****  * 环形阵列： ``` 同线性阵列一样，也支持间隔角度和整体角度两种阵列方式且支持在属性面板中对阵列方式进行调整，也支持对阵列个数、针对半径、间隔角度/整体角度进行调整或关联参数。 ``` * 操作步骤： 1. 选择需要阵列的对象，在“助手对话框”中选择“环列”命令； 2. 设置需要的参数：旋转中心、回默认点；阵列的个数以及阵列的方式：间隔角度和整体角度； 3. 单击确认旋转的起始射线，再次单击确认旋转的角度； 4. 按Esc 退出环列命令。